近来有网络媒体称，中微半导体自主研发的5纳米等离子体刻蚀机，功能优秀，将用于全球首条5纳米芯片制程生产线，并评论说我国芯片生产技能总算打破欧美封闭，第一次占据国际制高点我国弯道超车等等。中微公司的刻蚀
光刻机（baiMaskAligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem。是指在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移
放眼全球233个国家和地区，可以制造光刻机的厂商寥寥可数，其中，荷兰ASML公司是全球最顶尖实力最强的光刻机制造厂商，也是目前全球唯一可以制造EUV光刻机的厂商。虽然，日本也有两家光刻机厂商：尼康、佳
